Η Intel ξεκίνησε την εργασία πάνω σε υπερελαφρά διαδικασίες 10Α και 7Α, ενώ οι πρώτες μικροσυσκευές 14‑άνγστερ θα δοκιμαστούν τον Οκτώβριο.

Intel — η πορεία προς τις τεχνολογίες 10‑ και 7‑νάμμετρων διαδικασιών

Την εβδομάδα, ο γενικός διευθυντής της Intel, Lip‑Bu Tan, επιβεβαίωσε ότι η εταιρία εργάζεται ήδη πάνω σε νέες τεχνολογίες παραγωγής των 10 nm (10A) και 7 nm (7A). Αυτές οι διαδικασίες θα αντικαταστήσουν τα τρέχοντα κόμβους 18 nm και την επόμενη γενιά 14 nm μέσα στο επερχόμενο δέκατο έτος. Σχεδιάζεται η χρήση των EUV‑λιθογραφικών μηχανών ASML με υψηλή αριθμητική διάβρωση (High‑NA), οι οποίες προηγουμένως χρησιμοποιούνταν μόνο στη διαδικασία 14 nm.

> «Τώρα ξεκινώ να δουλεύω πάνω στον χάρτη πορείας των 10A, 7A», δήλωσε ο Tan στην παγκόσμια συνάντηση της JP Morgan για τεχνολογίες. – «Οι άνθρωποι δεν απλώς ζητούν από εσάς, αλλά ψάχνουν ένα σχέδιο για το μέλλον. Γι’ αυτό οικοδομούμε μια μακροπρόθεσμη επιχείρηση».

Ο Tan τονίσε ότι οι φιλοδοξούντες προγραμματισμοί ανάπτυξης είναι εξίσου σημαντικοί με τα ανταγωνιστικά προϊόντα. Πολλές εταιρίες προτιμούν να συνάπτουν συνεργατικές συμφωνίες για χρόνια, επομένως η Intel πρέπει να ενημερώνει τους εταίρους της για τις μακροπρόθεσμες στρατηγικές της, ακόμη και αν η εμπορικοποίηση των τεχνολογιών είναι ακόμα μακριά.

Τρέχουσα κατάσταση της διαδικασίας 14‑νάμμετρων
* Το PDK 0.5 είναι ήδη διαθέσιμο.
* Το PDK 0.9 («το αγιοσύνη» λέει ο Tan) αναμένεται τον Οκτώβριο.
* Η Intel έχει μερικούς πελάτες που εργάζονται με το 14A· η εταιρία διευκρινίζει τις απαιτήσεις προϊόντος και παραγωγικών δυνατοτήτων, αλλά δεν αποκαλύπτει τα ονόματά τους.

Η έναρξη της παραγωγής του 14A προγραμματίζεται για το 2028 έτος, ενώ η σειριακή κυκλοφορία των χипов θα γίνει το 2029 έτος. Αυτό θα συμβαίνει περίπου την ίδια στιγμή που η TSMC θα ξεκινήσει μαζική παραγωγή χипов με τεχνολογία A14. Αν και η A14 δεν είναι άμεσος ανταγωνιστής του 14A (επειδή το τελευταίο προσαρμόζεται καλύτερα για υψηλής απόδοσης κέντρα επεξεργασίας δεδομένων), η TSMC θα ξεκινήσει την ευρεία παραγωγή της A14 στο τέλος του 2028 έτος, και η Intel θα χρειαστεί χρόνο για να μεταβεί από την πειραματική παραγωγή σε σταθερή εξαγωγή ποιοτικών προϊόντων.

Εφαρμογή High‑NA EUV
Η εφαρμογή νέων εργαλείων High‑NA EUV μαζί με μια σειρά άλλων καινοτομιών είναι περίπλοκη. Γι’ αυτό η Intel συνεργάζεται στενά με την ASML και άλλους εταίρους, ώστε το νέο οικοσύστημα να είναι πλήρως έτοιμο για χρήση. Ο Christophe Fouquet από την ASML ανακοίνωσε την έναρξη των πρώτων δοκιμαστικών χипов με High‑NA EUV μέσα στους επόμενους μήνες.

Έτσι, η Intel ήδη τώρα δημιουργεί τη βάση για τις μελλοντικές γενιές επεξεργαστών, συνδυάζοντας μακροπρόθεσμη στρατηγική με ενεργή εργασία πάνω στις πιο πρόσφατες τεχνολογίες λιθογραφίας.