Η ASML ανακοίνωσε την τελική προετοιμασία του High‑NA EUV για τη μαζική παραγωγή των πιο λεπτών μικροεξαρτημάτων.

Η ASML προσελκύει την προσοχή των κατασκευαστών μικροεξαρτημάτων ακόμη και για την τεχνολογία High‑NA

Οι κατασκευαστές μιτρώμενων κυκλωμάτων που σχεδιάζουν να παράγουν χิปς χωρίς τη χρήση σαρωτών με υψηλή αριθμητική διάφαση (High‑NA) έχουν ήδη ενδιαφερθεί για τα νέα λυθογραφικά συστήματα της ASML. Η Ολλανδική εταιρεία διαβεβαιώνει ότι οι δοκιμές έδειξαν ότι η εξοπλισμός είναι έτοιμος για μαζική παραγωγή.

Κύριες πληροφορίες από τον τεχνικό διευθυντή

Ο τεχνικός διευθυντής της ASML, Μάρκο Πίτερσ, ενημέρωσε την Reuters ότι τα αποτελέσματα των δοκιμών High‑NA EUV σαρωτών επιτρέπουν στην εταιρεία να τους παρουσιάσει στο Σαν Χοζέ κατά τη διάρκεια του επερχόμενου τεχνολογικού συνεδρίου. Σύμφωνα με τις δοκιμές, με τη χρήση των πιο πρόσφατων σαρωτών, ήταν δυνατή η επεξεργασία περίπου 500 000 πυρίτιων πλακών με διαδικασίες λιγότερες από 2 nm.

Έτοιμοι για σειριακή παραγωγή

Κάθε ένας από αυτούς τους σαρωτές κοστίζει περίπου $400 εκτ, αλλά η ASML δηλώνει ότι είναι «φορματικά» έτοιμος για μαζική παραγωγή. Ο εξοπλισμός παρέχει την απαιτούμενη ακρίβεια έκθεσης και έχει χρόνο διακοπής λιγότερο από το 20 % λόγω ρύθμισης και επισκευής. Αυτό τον καθιστά κατάλληλο για τη σειριακή παραγωγή προηγμένων χิปς.

Περίοδος προσαρμογής των πελατών

Ωστόσο, οι πελάτες θα χρειαστούν ακόμη δύο–τρία χρόνια για να ενσωματώσουν πλήρως τις τεχνολογίες High‑NA EUV στις γραμμές παραγωγής τους. Πολλοί μεγάλοι όπως η Intel, TSMC και Samsung εξετάζουν ήδη αυτόν τον εξοπλισμό.

Μέχρι το τέλος της τρέχουσας χρονιάς, η ASML σχεδιάζει να μειώσει το χρόνο διακοπής στο 10 % και να βελτιώσει την απόδοση των σαρωτών. Η εταιρεία είναι έτοιμη να μοιραστεί με τους πελάτες λεπτομερή δεδομένα για να τους πείσει για τη λογικότητα της μετάβασης στην επόμενη γενιά λυθογραφίας.